ᐉ OBLF VeOS купить по выгодной цене OLMATEK Алматы.

Главная

Каталог

Неразрушающий контроль и техническая диагностика

Эмиссионные спектрометры

OBLF VeOS - оптико-эмиссионный спектрометр

Обновление товара: 02 декабря, 2024 в 11:48

Снят с поставки

OBLF VeOS - оптико-эмиссионный спектрометр

Характеристики:

Бренд: OBLF GmbH (Германия)

Гарантия: 3 года

Все характеристики

Описание Характеристики Документация Отзывы

Описание OBLF VeOS

OBLF VeOS применяется на любых предприятиях для контроля химического состава металлов и сплавов.
Используется для научных исследований (например, для изучения межэлементных влияний в сплавах и т. п.), разработки новых сплавов.

Возможности оптико-эмиссионного спектрометра VeOS

Одновременное определение всех элементов в пробе
Анализ различных матриц (Fe, Al, Ni, Ti, Cu, Zn, Co, Mg, Pb, Sn)
Возможность комбинирования разных матриц на одном приборе
Анализ N, C, S, P (азот, углерод, сера, фосфор) в металлах
Автоматическое профилирование и коррекция дрейфа

Преимущества оптико-эмиссионного спектрометра VeOS

Решает широкий круг практических задач промышленных лабораторий металлургических предприятий, включая производителей чистых металлов.
Стационарный эмиссионный спектрометр, основанный на полупроводниковой сенсорной системе. Бескомпромиссная конструкция, сочетающая высокие аналитические показатели с невероятной гибкостью CCD/CMOS детекторов.
Обеспечивает точный анализ коротковолновых элементов, напр. сера, фосфор, азот, низкие концентрации углерода в стали, фосфор в алюминии и т.д.

Достоинства оптико-эмиссионного спектрометра VeOS

Всеобъемлющая мультиматричная система без ограничений в выборе элементов для анализа
Выбор любой спектральной линии пользователем в диапазоне от 130 до 780 нм.
Одновременное определение всех элементов в пробе
Анализ различных основ (Fe, Al, Ni, Ti, Cu, Zn, Co, Mg, Pb, Sn)
Возможность комбинирования разных основ на одном приборе
Анализ N, C, S, P в металлах
Удовлетворяет всем аналитическим задачам
Легко добавляемые аналитические линии
Новейшая, специально разработанная технология детекторов
Точное определение низких пределов содержания N и C (технология ULC)
Превосходные эксплуатационные качества благодаря пределу обнаружения, точности и стабильности
Автоматическое профилирование и коррекция дрейфа
Надёжная конструкция для работы в жестких производственных условиях

Детекторы
Конструкция светочувствительных детекторов CMOS специально приспособлена для требований эмиссионной спектрометрии. Они отличаются большой светочувствительной поверхностью, которая в 100 раз больше, чем в сопоставимых системах.

В VeOS применяются высококачественные эксклюзивные твердотельные детекторы, разработанные специально для эмиссионной спектроскопии
Усовершенствована чувствительность сенсоров:
большая площадь пиксела: узкие и высокие пикселы (для повышения разрешения и чувствительности)
отсутствие органических покрытий для повышения чувствительности в УФ- диапазоне (как результат- долговременная стабильность)
Истинная технология компенсации шума CDS (двойное сэмплирование)
Улучшена чувствительность в УФ-области без органического покрытия
Избирательная чувствительность для каждого сенсора
16 битное АЦП преобразование для измерения в большом динамическом диапазоне
Быстрое считывание за 2 мс
Отсутствие блюмингового эффекта (эффекта «распускания») благодаря специальной конструкции транзистора
Охлаждение детекторов для уменьшения темнового шума и улучшения стабильности сигнала
Технология объединения сигналов с пикселов для повышения аналогового сигнала (только для CMOS)

Необслуживаемый цифровой генератор GDSIII

Обеспечивает высочайшую степень воспроизводимости по всем параметрам возбуждения
Улучшает точность и пределы обнаружения концентраций элементов
Снижает межэлементные влияния и влияние фона
Параметры возбуждения оптимизированы
Программируемая частота разряда 1 Гц- 1 кГц

Искровой штатив

Конструкция штатива позволяет получать оптимальный световой поток для элементов, возбужденных в различных областях плазмы, что крайне важно для определения следовых концентраций
Оптимальный участок плазмы искры
Запатентованная импульсная продувка аргоном
Термостабилизация штатива
Простой доступ для обслуживания

Считывающая и обрабатывающая электроника полностью помещены в термостабилизированную вакуумную камеру.

Программное обеспечение OBLF VeOS

Базируется на концепции OBLF, сочетающей использование микропроцессоров для контроля работы отдельных устройств спектрометра и регистрации аналитических сигналов, с центральным управляющим ПК и аналитическим программным обеспечением на базе платформы Windows™. Управляется с помощью системы меню, оптимизировано для быстрой работы. Экранный интерфейс оператора на русском языке.

Возможности программного обеспечения OBLF VeOS

Обработка данных спектра
различные режимы сглаживания формы кривой спектральных линий (FFT, spline, Savitzky-Golay)
«вычитание» фона для каждой линии
постоянная проверка профиля линии
использование нескольких линий сравнения
«Анализатор спектра» (позволяет увидеть на экране весь спектр, параметры канала)
Технологии компенсации фона
Расчет интенсивностей канала (n-Pixel-Integral, Gauss area, Peakheight)
Виртуальная выходная щель шириной 3 - 100 pm
Линейная интерполяция для «улучшения» спектрального разрешения
Контроль профиля
Контроль темнового тока
Автоматическое профилирование с помощью ПО

показать все скрыть

Характеристики OBLF VeOS

Параметр	Значение
Оптическая схема Пашена-Рунге	500 мм
Плоская решётка	160 мм
Разрешение дифракционной решётки	2600 линий/мм
Обратная дисперсия для 1-го порядка	0,78 и ~4 нм/мм
Диапазон длин волн	130-680/780 нм
Частота искрового разряда	1 - 1000 Гц
Чистота аргона	99,998 %
Расход аргона на один прожиг в Fe-матрице	макс. 2,4 л
Расход аргона во время ожидания	капиллярный
Габариты прибора, Д х Ш х В	1150 х 740 х 1340 мм
Вес нетто	300 кг